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質譜儀低真空和高真空的選擇

發布時間:2018-08-30       點擊次數:11221

質譜儀高真空的原因:

1.離子的平均自由行程必須大于離子源到收集器的飛行路程;

2.離子源內高的氣壓可能引起高達數千伏的加速電壓放電;

3.電離盒內的高氣壓導致離子—分子反應,改變質譜圖樣;

4.保護燈絲,低真空背景干擾強烈,噪音高。氧氣含量過高容易對電子器件破壞,很多電子器件的正常運轉需要高真空;在低真空度下存在氧分子還會使發射電子的熱燈絲迅速氧化而損壞,就像白熾燈中的鎢絲怕見空氣被氧化一樣。

                                                    沃特世Waters Xevo TQ-S質譜儀,Xevo TQS 

 

質譜儀高真空的優勢:

1.平均自由程是分子(離子)兩次碰撞所走過的路程,發生碰撞的時候那么離子的運動方向和速率都將會發生變化,在質譜中離子的平均自由程越大,那么在有限長的真空腔體內發生分子間或者是離子間的碰撞就越少,有利于提高分辨率,如果真空低,平均自由程就短,那么分子之間的碰撞就頻繁,分辨率下降。

2. 如果真空腔體真空低,比如說是在幾Pa到幾十Pa,那么根據放電的最佳條件可知,這個時候高壓特別容易放電;另外如果系統使用的是EI,那么為了防止EI燈絲燒斷,真空度

要高于10-3Pa。

3.高氣壓下,離子分子反應這個就不必講了,CID就是最為典型的人為離子-分子反應得到目標離子碎片。

4.真空中必須高真空還有一點就是,目前所使用的微通道板和電子倍增器等信號放大系統都需要在高真空下才能夠達到應有的效果。所有的質譜都是用來檢測離子的,而這些質譜的檢測原理不外乎是利用離子在電場、磁場或電磁場中的運動特性來使具有不同質荷比的離子加以區分并檢測。離子要在電場、磁場格式刷或電磁場中飛行一定的時間和空間,如果在這些時間和空間中存在大量的氣體勢必會使離子很快淬滅而達不到檢測器。所以為了減少離子與背景氣體的碰撞淬滅要抽真空使背景氣體分子數量大大減少,以維持足夠的離子平均自由程。

簡言之,最重要是使氣相離子具有較高的平均自由程,另外高真空可以防止離子-分子反應的發生,真空有利于離子源的正常調諧,避免氣體傳導引起的高壓放電從而損壞電路或相關部件。

總之:

1.離子源將分子進行離子化,形成了離子和離子碎片,真空可以降低分子離子反應 ;

2.在離子通過四級桿的時候,真空給離子提供了足夠的平均自由程,也就是提供了接近完美的環境,用來篩選離子;

3.燈絲保護作用,真空比空氣少很多分子,也就減少了干擾,降低燈絲的損耗 ;

4.調諧影響,離子源一般都是70ev,不受壓強影響,而發射電流則會被壓強影響,空間電荷妨礙電子束通過電離盒,影響正常調諧;

5.高壓放電,在高電壓下氣體傳導會產生放電現象;

6.電子倍增器和打拿極保護,這倆東西暴露在空氣中將嚴重縮短壽命; 

7.降低本底干擾。

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