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首頁(yè)-譜標(biāo)服務(wù)-串聯(lián)四極桿ICP-MS可實(shí)現(xiàn)對(duì)低濃度汞元素測(cè)定

串聯(lián)四極桿ICP-MS可實(shí)現(xiàn)對(duì)低濃度汞元素測(cè)定

發(fā)布時(shí)間:2023-11-24       點(diǎn)擊次數(shù):1123

許多汞 (Hg) 化合物有毒,會(huì)引起皮膚刺激、頭痛、震顫、神經(jīng)系統(tǒng)損傷和腎衰竭等不適或中毒癥狀。由于汞化合物極易透過(guò)皮膚被人體吸收,因此化妝品中 Hg 化合物的使用受到嚴(yán)格控制。例如,除非在特殊條件下(找不到其它可替代的安全有效防腐劑),否則美國(guó)食品藥品監(jiān)督管理局 (FDA) 不允許在化妝品里使用汞。

然而,Hg 化合物在護(hù)膚霜、肥皂和乳液中使用,可使其具有抗衰老美白功效。某些不法商販看中了其中的商機(jī),會(huì)在化妝品中非法添加 Hg 化合物,以求產(chǎn)品的顯著功效,從中獲利。

可使用 ICP-MS 測(cè)定低濃度的汞元素,但存在一定的困難。

汞具有較高的第一電離勢(shì) (10.44 eV),因此在等離子體中電離效果相對(duì)較差,從而導(dǎo)致靈敏度較低。此外,汞有七種天然存在的同位素,每一種同位素的豐度 (%) 都相對(duì)較低,這進(jìn)一步降低了靈敏度。此外,一些化妝品中還含有大量鎢 (W),這導(dǎo)致汞的所有同位素都受到 WO+ WOH+ 的多原子干擾,使得汞的測(cè)定更加困難。配有碰撞反應(yīng)池 (CRC) 的傳統(tǒng)單四極桿 ICP-MS 并不能充分去除 WO+ WOH+干擾,無(wú)法對(duì)汞進(jìn)行準(zhǔn)確的痕量測(cè)定。

在研究中發(fā)現(xiàn),串聯(lián)四極桿 ICP-MS (ICP-MS/MS) MS/MS 模式、反應(yīng)池氣體為 O2 下具有出色的干擾去除能力,可成功去除 WO+ WOH+ 對(duì)五種主要汞同位素的多原子干擾,從而對(duì)汞進(jìn)行原位質(zhì)量檢測(cè)

- 采用反應(yīng)池氣體為 O2  MS/MS 原位質(zhì)量方法,在鎢存在條件下的汞痕量測(cè)量準(zhǔn)確一致;

- 與傳統(tǒng)的單四極桿 ICP-MS 相比,ICP-MS/MS 可將干擾降低至少兩個(gè)數(shù)量級(jí);

- 8900 ICP-MS/MS 方法可輕易滿足富含鎢的化妝品樣品中對(duì)痕量汞分析的要求。

570319569

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